真空均質乳化攪拌機   Vacuum Emulsifying Blender Machine  
PLC 控制均質乳化攪拌機 :
真空乳化機是引進國外先進技術,根據化妝品,藥膏類產品的製膏類產品的製膏技術而專門設計的,本機組由預處理鍋,真空乳化攪拌鍋,真空幫浦,液壓系統,倒料系統,電器控制系統,工作平台等部分組成。 操作簡便,性能穩定,均質性好,生產效率高,清洗方便,架構合理,占地面積少,自動化程度高等特點。
用途 :
真空均質乳化攪拌機組成適用於化妝品廠,藥廠的膏,霜類產品的生產,尤其對基質黏度大,固含量比較高的物粒料乳化配製更顯功效。
雙缸升降式均質乳化攪拌機
採用上部同軸三重型攪拌器,液壓升降開蓋。
快速均質攪拌器轉速︰0~3500 rpm (變頻調速)
慢速刮壁攪拌器轉速︰10~45 rpm (變頻調速)
均質頭採用高剪切渦流式乳化攪拌機,慢速刮壁攪拌自動緊貼鍋底及鍋壁,採用真空吸料,特別對粉體物料利用真空吸入避免粉塵飛揚。整個工序在真空條件下進行,防止物料在高速攪拌后產生氣泡,能達到衛生無菌要求。
乳化攪拌機系統配有 CIP 清洗裝置,防與物料接觸部分 SUS316L (SUS304) 材料製造,內表面鏡面拋光 300EMSH (衛生級標準)為了確保控制部分的穩定、電器控制部分採用知名公司的產品, 按紐採用日本富土公司產品,變頻器採用日本松下電工,真空幫浦採用西門子公司產品。 本機組成完全按照 GMP 要求製造,是目前國內最先進,最理想的膏與霜生產設備。
真空均質乳化攪拌機規格   Technical parameter :  
型號 有效容量 乳化馬達 攪拌馬達 外型尺寸 電力
Kw
Kw rpm Kw rpm 全高
TFZRJ-5 5 0.37 0~3500 0.37 10~70 1150 600 1650 1950 2.5
TFZRJ-20 20 2.2 0~3500 0.37 10~70 1800 1600 1850 2700 8.57
TFZRJ-50 50 3 0~3500 0.75 10~70 2700 2000 2015 2700 8
TFZRJ-100 100 3 0~3500 1.5 10~70 2920 2120 2200 3000 11
TFZRJ-150 150 4 0~3500 1.5 10~70 3110 2120 2200 3100 11
TFZRJ-200 200 5.5 0~3500 1.5 10~70 3150 2200 2200 3100 12
TFZRJ-350 350 7.5 0~3500 2.2 10~70 3650 2650 2550 3600 15.75
TFZRJ-500 500 7.5 0~3500 2.2 10~70 3970 2800 2700 3950 21.5
TFZRJ-750 750 11 0~3500 4 10~70 3780 3200 3050 4380 25
TFZRJ-1000 1000 11 0~3500 4 10~70 3900 3400 3150 4550 25
TFZRJ-2000 2000 15 0~3500 7.5 10~70 4850 4300 3600 不帶升降 33.5

特點 :
特定的性能,針對各種產品及不同的黏度條件,實現安全、經濟的生產;刮壁攪拌器的浮動式刮板,能有效解決膏霜生產中,內外混全不均勻的問題。 性能穩定,均質性好,生產效率高,清洗方便,占地面積少等特點。
設備符合 CGMP 規範和 FDA 要求。
用途 :
適用於高黏度物品的乳化、混練與均質。
膏與霜的生產如洗面乳、面霜、凝膠、沐浴乳、藥膏、健康食品、油漆、樹脂涂料、顏料、洗劑類產品、電子材料等。

 
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